В ИФМ РАН создано оборудование для нанолитографии с проектным разрешением до 8 нанометров

отметили
25
человек
в архиве
В ИФМ РАН создано оборудование для нанолитографии с проектным разрешением до 8 нанометров
Прежде уже создан:
Стенд нанолитографии с проектным разрешением 30 нанометров
К сожалению новость массово не освещалась и получила обсуждение только на специализированных ресурсах.

Нанолитография перспективное направление для создание микро эллектронных структур менее 10 нм. Многие зарубежные производители делают ставку именно на этот метод. Несмотря на ряд недостатков таких устройств впрошлые годы, в настоящее время удалось избавиться от «детских болезне».

Для создания стендов нанолитографии следующего поколения с пространственным разрешением до 8 нм предложены многослойные зеркала на основе La/B (La/B4C) для спектральной области вблизи 6.7 нм. Синтезированы La/B4C/C зеркала нормального падения со сверхтонкими углеродными барьерными слоями с рекордным коэффициентом отражения 58.6%, что позволяет начать разработку многозеркальных схем нанолитографов с рабочей длиной волны излучения 6.7 нм.

Авторский коллектив:
Авторы
Н. Н. Салащенко, Н. И. Чхало, В. Н. Полковников, С. Д. Стариков — ИФМ РАН;
S. Künstner, F. Schäfers — Institute for Nanometre Optics and Technology, HZB-BESSY-II, Берлин, Германия.

В составе российских и германских ученых представил оснащение для литографии с новым качеством разрешения. Что сделало еще один шаг к переходу массового производства менее 10 нм.
Добавил ИмяФамилия ИмяФамилия 15 Ноября 2013
Комментарии участников:
ИмяФамилия
+2
ИмяФамилия, 15 Ноября 2013 , url
На усмотрение Н2 пользователей — новость не так свежа. Но институт печатает такие новости только «за прошлые годы» а в прессе как то не освящалось.

Кстати адрес заведения — доставил )
Lim
0
Lim, 15 Ноября 2013 , url
думаю, даже если бы этой новости было сорок лет, для большинства совершенно пофиг.
X86
+2
X86, 15 Ноября 2013 , url
Если бы этой новости было 40 лет, я бы охуел от крутости советской мироэлектронной науки :)
ocebe
0
ocebe, 15 Ноября 2013 , url
Правильно я понимаю что это может быть применимо при создании чипов? В индустрии сейчас техпроцесс 16-24 нм — так что это прорыв, если ничего не путаю.
ИмяФамилия
0
ИмяФамилия, 15 Ноября 2013 , url
Да. Сейчас технологию нанолитографии пытаются перевести из лаборатории в массовое производство.

Но это не прорыв (пока) — вроде в лабораторных условиях таких результатов достигали уже некоторое время назад. Возможно это предвестник к переходу на использование такого оборудования для массового производства.

Вот огромное обсуждение на такую тему. Там где то на 20-30х страницах спорят и о нанолитографии.
fakenews
0
fakenews, 15 Ноября 2013 , url
я читал как-то по поводу техпроцесса, от лабораторий до производства оооочень далеко. те требования совсем другие, есть еще показатель типа «выход годных», нужно оборудование для тестирования.
ИмяФамилия
0
ИмяФамилия, 15 Ноября 2013 , url
Там не лабораторное оборудование создано. А элементы ( запчасти) к серийному. В кооперации с немецкими фирмами часть делает вот этот институт. Я там ссылочку на обсуждение кидал. Там много — но гораздо внятнее чем я что либо могу пояснить.

Ну т.е. это не индивидуальный российский прорыв «мы сами с усами» — а часть международной кооперации к прорыву менее 10нм.
ocebe
+1
ocebe, 16 Ноября 2013 , url
Спасибо)
Abstraction
0
Abstraction, 15 Ноября 2013 , url
Да, может быть применено. Понятие «размер структур X нм» довольно маркетологическое, так что ориентироваться стоит на порядок, а не на точные значения.
В смысле теории — хорошая работа. В смысле практики — пока неизвестно: не исключено, что до приемлемого выхода годных реальных чипов это ещё допиливать года два-три-четыре.


Войдите или станьте участником, чтобы комментировать