На территории Технополиса «Москва» запущена линия по производству одного из наиболее наукоемких и центральных компонентов безмасочных литографов голландской компании Mapper Lithography — элементов электронной оптики на основе МЭМС (микроэлектромеханических систем)Площадь московского завода составляет две тысячи квадратных метров. Из них половина приходится на чистые помещения, которые, согласно измерениям, соответствуют классу чистоты по стандарту ISO 6. Все производство укомплектовано современным высокотехнологичным оборудованием, в числе которого — литограф ASML, машины для травления SPTS и Lam Research и для удаления фоторезиста Trymax.

На московском заводе будет работать более 30 человек, которые прошли многомесячное обучение в головной компании в Голландии. Стоит отметить, что среди них есть и ряд специалистов, долгие годы проработавших на Западе в ведущих компаниях микроэлектронной отрасли и вернувшихся в Россию, к примеру — технический директор российского завода Mapper Денис Шамирян (IMEC, Global Foundries).

Литография является центральным процессом производства интегральных микросхем, полупроводниковых приборов, а также некоторых сверхпроводниковых наноструктур. Стандарт отрасли сегодня — оптическая иммерсионная литография, которая обеспечивает разрешение около 32 нанометров. Ряд дополнительных технологий позволяет увеличить разрешение оптической литографии до 22 нанометров, что ощутимым образом ухудшает экономику производства.

Альтернативой оптической литографии является безмасочная литография на основе лучевой технологии (Electron-beam lithography, E-beam). Mapper Lithography более 10 лет разрабатывает технологии электронно-лучевой безмасочной литографии и уже имеет несколько промышленных прототипов литографа, которые были приобретены и проходили тестирование у ведущих игроков отрасли — тайваньской компании TSMC и научно-исследовательского института микроэлектроники CEA-Leti (Франция). На данный момент оборудование компании позволяет достичь разрешения в 22 нанометра.

В России производится ключевой компонент литографических систем Mapper — электронная оптика на основе микроэлектромеханических систем (МЭМС). Инновационность решений Mapper и их основное отличие от конкурентов состоит в использовании не одного электронного луча, как это делалось ранее, а 13 000 лучей одновременно, что резко повышает производительность системы. Элементы электронной оптики, выпускаемые в России, как раз и превращают один луч в 13 000 и управляют каждым таким лучом в отдельности.

Предполагается, что на заводе в Москве будут изготавливаться три типа элементов электронной оптики. Самые простые — спейсеры — служат для разделения элементов электронной оптики. Следующие по сложности структуры — кремниевые электронные линзы, предназначены для фокусировки и коллимации пучков электронов. Их производство начнется к концу текущего года. Выпуск самых сложных элементов — содержащих электронику управляющих электродов — планируется начать к концу 2015 года.

Рынок литографического оборудования крайне к