Новую установку для производства чипов создали в России

В Российской Федерации создали оборудование для производства чипов на кремниевых пластинах диаметром 300 миллиметров. Новый комплекс представляет собой установку, которая будет выполнять один из ключевых процессов при производстве микроэлектроники – плазмохимическое осаждение (ПХО).В основе конструкции лежит модульный принцип, который позволит настраивать комплекс под задачи конкретного производителя. Даже программное обеспечение и управление устройством можно настроить под индивидуальные запросы практически любого заказчика. Это делается для того, что компании без лишних затруднений могли адаптировать приобретенное оборудование под производственные особенности.
300-миллиметровый диаметр представляет собой общемировой стандарт. Так создают почти все микросхемы (более 90%), использование такого диаметра позволяет выпускать больше чипов на одной подложке, что влечет за собой снижение себестоимости конечного продукта.
Принцип работы установки ПХО состоит в том, что пластины устанавливают в реактор, куда подается специальный газ. Под действием разряда газ превращают в плазму и запускают химическую реакцию, результат которой – сформированная тонкая диэлектрическая пленка.
Новинку разработали ведущие инженеры «Научно-исследовательского института точного машиностроения» (входит в ГК «Элемент»). Инновационное оборудование будет способствовать достижению новых горизонтов в сфере производства микроэлектроники и экспорта технологий.
На данный момент специалисты представили общественности только опытный образец, который пока проходит окончательное тестирование. После того как все проверки будут завершены, должно стартовать серийное производство оборудования ПХО.
В дальнейшем специалисты предприятия планируют сосредоточиться на выпуске большого числа компонентов, при этом ключевые технологические процессы не будут уступать зарубежным аналогам. Это позволит России стать крупным поставщиком оборудования для микроэлектроники на международной арене.
Первые планы по созданию комплекса для ПХО появились еще в 2021 году. За это время команда разработчиков продумала инновационную структуру, которая включает в себя четыре разных технологических модуля. Одна из центральных особенностей разработки заключается в том, что пластины будут перемещаться с помощью роботизированной системы транспортировки.
Созданные отечественными учеными технологии можно применять для различных производственных задач. Такой подход особенно важен для разностороннего развития микроэлектронной промышленности.
Специалисты отрасли также высоко оценивают важность разработки. Так, аналитик Алексей Бойко рассказал изданию «Известия», что создание российской установки ПХО – это важный шаг на пути к реальному импортозамещению и формированию полного цикла производства микроэлектроники в России.
Стоит отметить, что разработка «Научно-исследовательского института точного машиностроения» – не единственная в своей сфере. АО «Микрон» также занимается созданием кластера ПХО для техпроцессов с размерами 90–65 нанометров. Можно предположить, что в будущем это трансформируется в полноценную конкуренцию между производителями.
Главный редактор издания IT Expert и портала IT-World Андрей Виноградов подчеркнул важность внедрения оборудования для работы с 300-миллиметровыми пластинами. Он отметил, что сейчас подобные решения предлагают всего несколько мировых производителей, и начало выпуска таких комплексов в РФ значительно снизит зависимость отечественных компаний от импорта.
Успех этого проекта открывает дорогу к новым разработкам и технологическим инновациям в самых значимых сферах промышленности и экономики.
